| Home | E-Submission | Sitemap | Login | Contact Us |  
top_img
J. Korean Ceram. Soc. > Volume 35(3); 1998 > Article
Journal of the Korean Ceramic Society 1998;35(3): 259.
MOS 소자에서 WSi$_2$ 게이트 전극이 Thin Oxide 성질에 미치는 영향
박진성, 이현우, 김갑식1, 문종하2, 이은구
조선대학교 재료공학과
1영흥개발 부설연구소
2전남대학교 무기재료공학과
Effect of WSi$_2$ Gate Electrode on Thin Oxide Properties in MOS Device
Key words: Thin oxide, WSi2 electrode, MOS device, Oxide reliability
Editorial Office
Meorijae Bldg., Suite # 403, 76, Bangbae-ro, Seocho-gu, Seoul 06704, Korea
TEL: +82-2-584-0185   FAX: +82-2-586-4582   E-mail: ceramic@kcers.or.kr
About |  Browse Articles |  Current Issue |  For Authors and Reviewers
Copyright © The Korean Ceramic Society.                      Developed in M2PI